表面下散乱現象の描画手法は，人肌などの半透明物質の質感の再現に用いられ，ゲームなど実時間描画を必要とする場面に向け，より高速で高品質な手法の開発が盛んに行われている．表面下散乱は，多重散乱と単一散乱に分類され，単一散乱の影響が支配的な物体の場合，物体表面の放射輝度は，物体の厚み（入射光が物体内部を通過する距離）に依存する．単一散乱現象の描画手法にはTSMが挙げられるが，物体が凸形状である事を前提とするため，中空がある形状などで正しい厚みが得られず，描画結果に破綻をきたす事が多くあった．本セッションはこれらの問題点について，実時間描画が可能な程度に描画コストを抑えつつ，より良好な描画結果を生成する手法を紹介する．
講演者プロフィール
小坂 昂大
Visual Computing / グラフィクスと CAD
合同シンポジウム 2011 ポスター発表
久保 尋之
2006年早稲田大学理工学部卒．2008年同大学院博士前期課程了．2008年より2011年まで日本学術振興会特別研究員．2011年同大学院博士後期課程単位取得退学．現在，早稲田大学理工学術院助手．ACM SIGGRAPH2010 Talkセッションにて講演．CEDEC2010にてポスター賞（ホスピタリティ賞）受賞．
森島 繁生
1987年東大・工・大学院電子工学専門課程博士修了，工博．同年成蹊大学工・電気工学科専任講師，1988 年同助教授，2001年同電気電子工学科教授．2004年早稲田大学先進理工学部応用物理学科教授，現在に至る．1994年から1995年トロント大学コンピュータサイエンス学部客員教授， 1999年より2008年国際電気通信基礎技術研究所客員研究員．現在，明治大学非常勤講師，新潟大学非常勤講師，早稲田大学デジタルエンタテインメント研究所所長．コンピュータグラフィックス,コンピュータビジョン,音声情報処理，ヒューマンコンピュータインタラクション，感性情報処理の研究に従事.
服部 智仁
早稲田大学先進理工学研究科修士課程在籍
コンピュータゲーム向けのリアルタイムレンダリング技術開発を専攻
ACM SIGGRAPH 2010 Poster sessionにて"Curvature depended local illumination approximation of ambient occlusion."を発表
