2024年のCEDECでも紹介したYEBISの次期バージョン「YEBIS 4」が、いよいよこの夏リリース！ 本セッションでは、リアルタイム3DCGにおける光学表現・ポストエフェクトの最前線を支えるYEBIS 4の進化を、開発・デバッグ向け機能も含めて徹底解説します。
大幅に表現力の向上した被写界深度ボケ、レンズフレア、レンズ収差などのエフェクトに加え、収差グラフ表示、カラー情報モニタ、解像度やエフェクトの流れとパフォーマンスが一目瞭然となるパイプライン表示、既存のアップサンプル技術との効率的な連携や自由度の高いスケーリングフローなど、開発とデバッグに利用できるさまざまな便利機能をデモを交えて紹介。
昨年ご参加いただいた方にも新情報満載でお届けします！
講演者プロフィール
川瀬 正樹
プログラマブル・シェーダ黎明期におけるグラフィクスエンジン開発で、さまざまな基礎技術を考案。
現在はシリコンスタジオ株式会社にてYEBISをはじめとするミドルウェア研究開発に従事。得られた知見は、CEDEC／GDC／SIGGRAPHなどの技術講演で業界への共有を図っている。
CEDEC AWARD 2009 プログラミング・開発環境部門ノミネート。
《講演者からのメッセージ》
YEBISの約10年ぶりのメジャーバージョンアップとなります。
さまざまな光学エフェクトの表現やパフォーマンスの大幅な進化はもちろんですが、YEBIS 4は使いやすさを重要視して開発されてきました。
昨年紹介しきれなかった進化したエフェクトの数々に加え、「こういうのが欲しかった」と感じてもらえるような多くの支援機能についても、時間の許す限り紹介したいと思います。
