スペキュラーアンチエイリアシングを極める
受講スキル
マイクロファセットBRDFや微分・積分の知識、シェーダーの実装経験があると理解しやすいです。
受講者が得られるであろう知見
実用的なジオメトリックスペキュラーアンチエイリアシングの実装とその背景にある理論。
セッションの内容
鋭い鏡面反射を持つ高精細なオブジェクトを描画する場合、ハイライトがちらつく不快なスペキュラーエイリアシングがしばしば発生します。これはハイライトがピクセルサイズよりも非常に鋭いために起こる現象であり、数百samples/pixelのスーパーサンプリングでもこのエイリアシングを抑制するのは困難です。本講演ではこうしたエイリアシングを防ぐジオメトリックスペキュラーアンチエイリアシング手法を紹介します。本手法は数行のシェーダーコードで実装可能であり、極めて単純かつ高速です。講演では背景となる理論を徹底的に解説すると共に、実用的な使用方法や注意すべき制限について明らかにしていきます。
講演資料
CEDEC2021_CEDiL.pdf
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講演者プロフィール
プロフィール
平成19年3月信州大学大学院工学系研究科システム開発工学専攻博士後期課程修了。博士(工学)。株式会社日立製作所システム開発研究所(研究員)、株式会社スクウェア・エニックス(シニアリサーチャー)、Intel Corporation (Research Scientist)を経て、令和2年9月より現職。グローバルイルミネーションを中心にレンダリング技術に興味を持つ。
《講演者からのメッセージ》
経験者だけでなく、これからレンダリングの研究を始める方にも聞きに来て頂けたらと思います。